Công nghệ trong thời đại hậu đại dịch - Thử thách nhận diện khuôn mặt bằng mặt nạ

05/20/2021

Thời đại hậu đại dịch 2021- Thay đổi thói quen sinh hoạt và đảm bảo an toàn kéo theo nhu cầu về công nghệ mới. Cùng với việc tiêm vắc-xin, khẩu trang đã trở thành một cách quan trọng khác để giữ an toàn cho một người. Tại các khu vực công cộng như sân bay, bệnh viện, trường học, văn phòng, mọi người đều tuân thủ quy tắc đeo khẩu trang.

thách thức của việc nhận dạng khuôn mặt bằng mặt nạ

thách thức của việc nhận dạng khuôn mặt bằng mặt nạ

Các ngành công nghiệp bảo mật đã phải nghĩ ra cách để đảm bảo an toàn cho các cá nhân và cũng để duy trì hoạt động kinh doanh của họ trong thời kỳ đại dịch. Và giải pháp là các thiết bị Nhận dạng khuôn mặt với tính năng phát hiện mặt nạ và nhiệt độ.

Nhu cầu về thiết bị nhận dạng khuôn mặt đã tăng lên 124% trong năm qua. Anviz với tư cách là nhà cung cấp toàn cầu trong ngành bảo mật được giới thiệu FaceDeep Loạt Sách để đáp ứng nhu cầu toàn cầu. FaceDeep Loạt Sách là thiết bị đầu cuối nhận dạng khuôn mặt dựa trên AI mới được trang bị CPU lõi kép dựa trên Linux và phiên bản mới nhất BioNANO® thuật toán học sâu.

Theo ông Jin, giám đốc R&D của Anviz, Trong FaceDeep Loạt Sách tỷ lệ nhận dạng mặt nạ tăng lên 98.57% từ 74.65%. Bước tiếp theo cho Anviz đang điều chỉnh nhận dạng khuôn mặt với thuật toán mống mắt và cố gắng nâng tỷ lệ chính xác lên 99.99%.

Từ 2001, Anviz liên tục cập nhật độc lập của nó BioNANO thuật toán, cải thiện các công nghệ nhận dạng vân tay, khuôn mặt, mống mắt. Trong môi trường đại dịch toàn cầu này, Chúng tôi đang nỗ lực hết mình để cung cấp cho khách hàng một giải pháp thông minh tích hợp, tiện lợi và hiệu quả hơn.

David Hoàng

Các chuyên gia trong lĩnh vực an ninh thông minh

Hơn 20 năm làm việc trong ngành bảo mật với kinh nghiệm tiếp thị sản phẩm và phát triển kinh doanh. Ông hiện là Giám đốc nhóm Đối tác chiến lược toàn cầu tại Anvizvà cũng giám sát hoạt động trong tất cả các Anviz Trung tâm trải nghiệm cụ thể ở Bắc Mỹ. Bạn có thể theo dõi anh ấy hoặc LinkedIn.